生長方式:  直 拉

晶    向: [111]/[100]

平 整 度: <1微米

用    途: 1、PVD/CVD鍍膜做襯底；

          2、用作XRD、SEM、原子力、紅外光譜、熒光光譜等分析測試基底；

          3、同步輻射實驗樣品載體；

          4、分子束外延生長的基底；

          5、半導體光刻工藝等等。